Поиск в базе сайта:
Кафедра вэпт использование пучков энергетичных частиц в технологии нанесения тонких пленок дает следующие преимущества icon

Кафедра вэпт использование пучков энергетичных частиц в технологии нанесения тонких пленок дает следующие преимущества




НазваниеКафедра вэпт использование пучков энергетичных частиц в технологии нанесения тонких пленок дает следующие преимущества
Дата конвертации24.03.2013
Вес445 b.
КатегорияТексты


Кафедра ВЭПТ


Использование пучков энергетичных частиц в технологии нанесения тонких пленок дает следующие преимущества:

  • Использование пучков энергетичных частиц в технологии нанесения тонких пленок дает следующие преимущества:

  • - высокую пространственную разрешающую способность,

  • - возможность проведения низкотемпературных процессов, минизирующих влияние температуры на свойства подложки,

  • - возможность осуществления последовательных этапов обработки подложки без извлечения ее из вакуумной камеры, что уменьшает риск загрязнения и окисления поверхности изделия.



Применения процесса CVD, активируемого или усиленного лазерным излучением.

  • Ремонт масок и цепей,

  • Изготовление внутренних соединений,

  • Производство одноступенчатых омических контактов,

  • Нанесение твердых покрытий на контролируемые площади,

  • Образование неравновесных материалов,

  • Получение материалов с контролируемым размером зерна.























Этапы, из которых состоит процесс нанесения покрытия методом PCVD:

  • Этапы, из которых состоит процесс нанесения покрытия методом PCVD:

  • - смешивание реагентов в газовой фазе и прохождение химических реакций,

  • - транспортировка продуктов реакций к подложке,

  • - адсорбция частиц на подложке и реакции между ними,

  • - диффузия адсорбированных частиц вдоль подложки, образование пленки.



Процесс Photo-CVD PHOTOX (PHOTOX является торговой маркой фирмы Hughes Aircraft Company), впервые описан в 1981 году. Процесс предназначен для получения оксида кремния.

  • Процесс Photo-CVD PHOTOX (PHOTOX является торговой маркой фирмы Hughes Aircraft Company), впервые описан в 1981 году. Процесс предназначен для получения оксида кремния.





Похожие:




©fs.nashaucheba.ru НашаУчеба.РУ
При копировании материала укажите ссылку.
свазаться с администрацией